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テクニカルレポート
2015.09.11
3次元半導体の技術及び業界動向
(株)ザイキューブ

 

4.ザイキューブのTSV技術

ZyCSP TSV技術の製造フローは図2~図4に示す通りである。

図2 ZyCSPのプロセスフロー概略①

図3 ZyCSPのプロセスフロー概略②

図4 ZyCSPのプロセスフロー概略③

5.5M画素CMOSイメージセンサのZyCSP化設計

当社で試作した5M画素CMOSイメージセンサのZyCSP化設計のデータを図5に示す。

図5 ZyCSP試作例4 5M pixel sensor chip

6.BSI型CMOSイメージセンサの技術内容

 BSI(Back Side Illumination)型CMOSイメージセンサが伸びてきているが、その技術内容を図6に示す。このBSIへのTSV技術対応のプロセスフロー例については、図7に示す通りである。

図6 BSI(Back Side Illumunation)技術

図7 BSIのプロセスフロー例

 

会社名
(株)ザイキューブ
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