1. はじめに   　電子機器の発展は目覚ましく、年々高機能化しており、それに伴い、電子部品・デバイスの小型化、高密度化が急速...

  　これまで、半導体技術の解説、優良企業の紹介など、約5年間にわたって紙面を汚してきたが、今度は研究所巡りを企画した。日本には多くの研究所...

  1. はじめに   　資源に恵まれない日本は、電力源の燃料の大半を海外に依存し、資源確保で大きな課題を抱えている。国民生活と産...

  1. はじめに 　これまで、ムーアの法則を推進した原動力として、LSIパターンの微細化による集積度の向上と、デバイス構造に対して行われた...

  はじめに   　前回（2017年9月号）から、実装工程にも役立つ改善活動や品質活動に関する話を進めてきた。 　今回はその続きで...

  はじめに 　今日、IoTの世界を実現する環境が整ってきて、各所でIoTの実践が発表されるようになってきている。反面、まだまだIoTに関し...

  　2018年6月6日（水）?8日（金）の3日間にわたり、電子回路関連技術の総合展示会である『JPCA Show 2018 第48回 国際...

  1. はじめに   　ムーアの法則を推進する中心となるパター二ング技術を解説してきたが、微細化を進めると、デバイスの構造の改革...

  　今月は、パター二ング技術でも、フォトリソグラフィではないニッチなプロセスを紹介する。 　現在はまだ開発中でニッチな感じがするが、成功す...

  1. はじめに   　ムーアの法則は、LSIのパターン微細化により進展してきた。そのためにはパターニングのためのフォトレジスト...

  1. はじめに   　CMOSが微細化されると、大きな電流が取れなくなり、移動度を向上する必要が出てきた。今月は移動度向上のた...

  1. はじめに   　1972年にIBMのデナードが比例縮小則（Scaling Rule）を提唱し、MOSICのパターンを微細...

  1. 配線のCR値を下げる工夫   　先月号では、回路の抵抗Rとコンデンサ容量Cの積であるCR時定数が大きくなると回路の周波数...

  1. はじめに   　先月号では、LSIの集積度が年々増加するというムーアの法則を示し、その主な技術としてパターンの微細化が重...

  1. ムーアの法則とは何か   　今から52年も前に、インテル社のゴードン・ムーア氏が、「半導体の集積密度は、1年で2倍になる...

  　これまで3年間、本誌に企業紹介を行ってきたが、今後は折に触れ、半導体に関する話題を提供することにしたい。第1回は超有名なインテル社の状...

  自社のオリジナル製品だけでなく、商社的立場でも事業を展開しているサンワ・エンタープライズ株式会社。今回は、同社の取り扱っている製品を約2...

  1.はじめに   　2008年のリーマンショックを起因とする金融不況からの脱却が進み、その後また一時景気を失速させた2015年...

    1.新しい電子CADの形 　EDA業界初（※当社調べ 2010年4月リリース）のクラウド電子CADシステム『Quadcep...

  1.はじめに 　前回( 17 年9月号 )から改善活動や品質活動に関する話しを進めてきた。今回は、はんだ工程にも役立つ品質とコストについ...