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テクニカルレポート
2014.07.22
実装不良の原因と対策
基板要因
(株)クオルテック

 酸化膜の測定はSERA法(連続電気化学還元法)で行った(図12)。一般的に使用されるAES(オージェ電子分光法)、XPS(X線光電子分光分析)は、酸化膜厚の測定時間が長く、多数の測定をするのには向かない。一方、SERA法は、試験片形状、寸法による制約などの問題もあるが、簡易な方法であり多数の試料測定には有効である。

図12 SERA法(連続電気化学還元法)

 今後、OSP基板の利用がますます増加すると考えられる。OSP基板のはんだ付け不良解析はわかりにくい。当社では、各パッドのOSP厚とOSP膜自体の状態を分析することが重要と考えており、引き続き、新しい分析方法の検証や方法自体を考えていきたい。
<参 考 資 料>
1)苅谷、他、無電解Ni-P/Sn-Agはんだ接合部の界面組織と機械的信頼性、Mate2000、pp.217−222、2000
2)菅沼克昭:はじめての鉛フリーはんだ付けの信頼性、初版、工業調査会、p42、2007
3)山本、他、無電解めっきを用いたBGAはんだ接合部の衝撃信頼性の検討など、MES2004、pp.77−80、2004
4)平森、他、Ni/AuめっきとSn-Ag系鉛フリーはんだの界面反応と接合部強度評価、MES2002、pp.131−134、2002
5)小野由加利、Ni粒界腐食発生要因の究明と改善策について、2011インターネプコン クオルテック技術資料
6)高尾、他、CuおよびCu−Sn系化合物のSn−Pbはんだ濡れ性解析、豊田中央研究所R&Dレビュー Vol.31 No.4、1996
7)濱田正和:マイクロソルダリング技術、初版、日刊工業新聞社、p199、2002

 

 

 

会社名
(株)クオルテック
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