1.第1号機開発以来の技術を結集

  半導体回路の微細化やクリーンテクノロジーに不可欠な環境条件として、低湿度管理が注目され、そのニーズが高まりつつある。

　医療やバイオなどの最先端分野と共に食品加工や製薬製造でも安全・良質な製品づくりにクリーンと低湿度条件は不可欠といえる。

　半導体分野に続き、リチウムイオン電池やその材料向けにもクリーンと低湿環境が求められている。たとえば、LEDの黄色蛍光体は水分の影響を受けやすく、また、赤色蛍光体は（青色LEDの重要な蛍光体の一つ）空気中の水分と反応して劣化してしまう。また、一般・半導体部品では、ウエハをはじめ水洗浄が行われ、その後の乾燥工程にも加熱・熱風乾燥が行われている。しかし、これらの処理に『低湿空気環境』を加えることによって、より効率化（＝時間と脱湿効果）を図ることができる。これら低湿度環境は、工業用クリーンルームのほか、今後発展が期待される有機ELや光学レンズ及び薬品製造でも必要とされるものである。

　当社では、このような先端技術による高度なクリーン・低湿度環境に対応するために、防湿庫の第1号機を開発して以来39年の技術を結集して新たな除湿方式を開発し、これを採用したことで庫内（相対）湿度を0％に安定して保つ『ウルトラ・スーパードライ：00シリーズ』を製品化した（表1、写真1）。その大きな特徴は以下の通りである。

表1　00シリーズ　性能試験結果（無負荷時）

写真1 『USD-1106-00』

①長期間安定して、庫内湿度0％を連続保持
　　（無負荷・常温・湿度60％の環境条件にて）
　②省エネ設計：消費電力約50％カット（当社比）
　③扉の開閉・負荷時に特に能力を発揮
　④全面ガラスドア・ハンドル一体型のニューデザインを採用
　⑤庫内湿度：0～50％

 

 

• 1
• 2
• 3