④結言

Siconnexの提案するオゾンプロセス ・ SicOzone^TMを利用することで、従来のプロセスに比べて使用するケミカル量を低減し、サステナビリティに貢献すると同時にコスト削減にもつなげることができる。また今回本文中では触れていないが、同社の装置『BATCHSPRAY®』（写真1）は液切り性の良さやクローズドシステムのため、同一プロセスでもケミカルの使用量が少なく済むという利点もある。省スペースでマルチプロセスが可能、かつスループットも確保できるSiconnexのバッチスプレー装置に興味がある方は是非当社までご連絡いただきたい。

 

＜参考文献＞

1）八尋 大輔：“化学品消費量を削減するサステナブルなウエハ洗浄”、

クリーンテクノロジー 2024.12月号、p.14-17

2）3M：“3M to Exit PFAS Manufacturing by the End of 2025”、

https://news.3m.com/2022-12-20-3M-to-Exit-PFAS-Manufacturing-by-the-End-of-2025

（accessed 2025-03-14）

3）日本医療・環境オゾン学会 環境応用部会／オゾン水研究会：“環境

分野におけるオゾン水の利用指針 基礎編（第2版）”2017、

https://www.js-mhu-ozone.com/riyou/image/2013-009/2018-114_riyoukiso.pdf

（accessed 2025-03-14）

4）森田 博志：“機能水” 洗浄技術の展開、シーエムシー出版 2002.　 p143-157

5）平山 昌樹：“気泡内高密度水蒸気プラズマによる水中難分解性汚染

物質の高効率分解技術”、（公財）JFE21世紀財団 2017、

https://www.jfe-21st-cf.or.jp/furtherance/pdf_hokoku/2017/12.pdf

（accessed 2025-03-14）

6）津野 洋、日本オゾン協会オゾンハンドブック改訂委員会：オゾンハン　 ドブック改訂版 サンユー書房、2016、p424

7）加藤 健、浅野 俊之：“高濃度オゾン水+エキシマ光併用による半導

体レジスト洗浄システムの確立”、筑波大学、（株）つくばセミテクノ　 ロジー 2008、

https://www.itic.pref.ibaraki.jp/publication/doc/result/h20/H20_03-08.pdf

（accessed 2025-03-14）

8）小宮山 宏：速度論、朝倉書店、1990、p221

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