従来品に比べ消費電力を大幅に削減し、カーボンニュートラル実現に大きく貢献できるN2リフロー装置。特徴は、①新しい大型水冷ユニットを加熱／冷却ゾーンに配...

パワーデバイスをはじめ、高い信頼性が要求される製品に最適な真空リフローはんだ付け装置。特徴は、①N2雰囲気での熱風循環加熱と真空バキュームの組み合わせ...

予備加熱〜本加熱〜冷却をモジュール内で高速処理する真空はんだリフロー炉。特徴は、①CCコンポジットヒータと独自の冷却機構をもちいることで急速加熱／急速...

従来品に比べ消費電力を大幅に削減したことで、カーボンニュートラル実現に大きく貢献するN2リフロー装置。特徴は、①新しい大型水冷ユニットを採用したことに...

特殊遠赤外線パネルヒータを採用した、遠赤併用熱風循環リフロー炉。特徴は、①炉内フラックス溜まりを最小限に抑え、メンテナンス期間の延長を実現している、②...

タッチパネルディスプレイの採用と機構部の改善で操作性が向上した、省スペースの静止型リフロー炉。特徴は、①本体操作で自在にプログラムの作成、自動測定が可...

省スペースな小型の静止型リフロー炉。特徴は、①タッチパネルディスプレイの採用と機構部の改善によって操作性が向上、②本体操作で自在にプログラムの作成／自...

大型空冷ユニットの採用により高品質性能をもつ高性能N2リフロー装置。特徴は、①大型空冷ユニット採用、加湿エリア、冷却エリアにそれぞれ配置することで、フ...

小規模の実験や試作などで、高い精度で温度制御をしつつ、手軽にリフローをしたいユーザーのために開発されたホットプレート。特徴は、①ギ酸還元や真空などには...

最高0.01％のボイドフリーを可能にし、フラックスレスや鉛フリーの課題解決に最適な卓上型ギ酸／水素ガス両対応真空はんだリフロー装置。特徴は、①最大到達...

実装基板を加熱し温度による反り（変位）測定や映像による観察が可能なリフローシミュレータ。特徴は、①360×360mmサイズの大型基板まで対応、②JEI...

フラックスレスやボイド除去、鉛フリーへの課題解決に最適なギ酸／水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置。特徴は、①ギ酸の還元作用で基板などの金属表面...

フラックスレスやボイド除去、鉛フリーへの課題解決に最適な、卓上型真空はんだリフロー装置。特徴は、①ギ酸の強力な還元作用で、基板などの金属表面の酸化膜を...

フラックスレスやボイド除去、鉛フリーへの課題解決に最適なギ酸／水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置。特徴は、①フラックスレスはんだ（還元方式）対...

不活性雰囲気のインライン蟻酸還元真空リフロー装置。特徴は、①プロセス温度:最高450℃、②加熱板面積は1段：440×410mmで、3段まで増設すること...

不活性雰囲気のインラインギ酸還元真空リフロー装置。特徴は、①プロセス温度：最高450℃、②加熱板面積は1段：440×410mmで、3段まで増設可能、③...

最小限のランニングコストで高品質を実現するリフロー装置。特徴は、①独自設計のマルチジェットヒータノズルから安定した気流により、高い加熱効率と均一性を実...

BGA/CSP搭載基板のはんだ／接着剤硬化に最適な小型ベーパーフェーズリフロー。特徴は、①すべてのタイプのはんだ付けに対する高い信頼性、②不活性雰囲気...

加熱11ゾーン、真空チャンバ、冷却4ゾーンを備え、確かな生産性と信頼性、メンテナンス性も兼ね備えた高性能真空リフロー装置。特徴は、①ピークゾーン後に真...

小規模の実験や試作などで、高い精度で温度制御をしつつ、手軽にリフローができるプログラマブルホットプレート。特徴は、①最大到達温度250℃、②最大昇温速...