SiCの熱酸化プロセスおよびGaNの結晶成長など、高い純度や安定性を要求する研究開発に適したφ6インチ対応真空／プロセスガス高速アニール加熱システム。...

急速／均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケーションに応用できる高速アニール加熱システム。特徴は、①窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス（水素＋窒素）...

高温／均熱性を実現した加熱システム。特徴は、①加熱対象物の吸収波長に合わせた色温度を設定できる、②均熱精度は±3％以内（トレイ有）、③スピーディな昇温...