真空環境でもクリーンでスムーズな動きを実現するPFASフリー真空用グリース。特徴は、①PFASフリーならびにメタルフリーの処方と工程で製造され、真空用途に不可欠な低い蒸気圧／低摺動／低発塵／低アウトガス性能を有し、直動製品に最適、②半導体製造装置内の汚染リスクを低減し、スムーズな動きと優れた潤滑性能を実現、など。