ECRイオンビームによる微細加工を実現する、コンパクトかつ高性能なECRイオンビームエッチング装置。特徴は、①Arなどの不活性ガスに加え、O₂やCF₄などの活性ガスでも安定したプラズマが生成可能、②ニュートラライザを備え、石英ガラスなど絶縁物のエッチングも可能、③ロングスロースパッタにより極微細パターンのリフトオフに最適な「ナノパターン成膜ユニット（NPD）」など、用途に応じてカスタマイズが可能、④加速電圧：20〜3000V、など。