急速／均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケーションに応用できる高速アニール加熱システム。特徴は、①窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス（水素＋窒素）パージのほか、高濃度水素ガスパージにも対応、②上下24本のIR（赤外）ヒータで、正確な高速加熱が可能、③石英チャンバ、④窒素ガスパージ方式による降温に対応、⑤プロセスガス最大4系統（MFC）、⑥到達真空度0.1Pa（TMP搭載も可能）、⑦タッチパネル方式モニタ標準搭載で、オペレーションが簡単、など。