高精細描画から大電流高速描画まで、幅広いアプリケーションに対応する電子ビーム描画装置。特徴は、①実績のある同社の鏡筒技術を継承、②精細なパターンが優先的であれば150kV／125kV、共通設備などの多種多様な要望には100kV、生産用途の高速描画には50kVと、様々な顧客のニーズに合わせることが可能、③8インチ／12インチをラインアップ、④フル12インチ描画エリアを実現し、ラインアップ化、⑤小片サイズから、2／3／4／5／6／7／8／12インチサイズのウエハに対応し、マスクも 6025や9025インチマスクなどにも対応、など。