スキャンクロック400MHzの高速スキャンで生産向けに対応する電子ビーム描画装置。特徴は、①同社従来製品比4倍の速度で高速ビームスキャンにより、大電流／狭ビームショットピッチでの描画が可能になり、より高速で高品質な描画を実現、②フィールド重合せ描画にも最適、③ステージの設計を見直し高速化を実現、④同社の鏡筒技術を継承し、加速電圧50／100／125／150kVを選択でき、様々なユーザーニーズに対応可能、など。