真空リフロー装置
ギ酸対応
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最高温度:450℃<±0.5℃、さらに高温対応が可能な真空リフロー装置。特徴は、①不活性ガス雰囲気中でのリフローシステム、②真空/加圧状態に適応、③急速昇温(200℃/min)と急速冷却(100℃/min)、④昇温速度と冷却速度を正確にコントロール、⑤加熱板面積:230×217mm/314×314mm、⑥冷却用ガス制御に別途1ライン対応、⑦1ppm以下の02用酸素モニタ、⑧フローメータ付きの2種類のガス制御に対応(オプションで4種まで)、⑨100%水素ガス使用可能、など。
- 会社名
- (株)ケー・ブラッシュ商会
- 所在地
- 東京都中央区月島1-2-13
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