温度制御／ガス流量（MFC）／真空制御などのプロファイルプログラム作成のほか、プロセスデータの保存を行うことができるφ4インチ対応タッチパネル採用フロントローディング式真空プロセス高速アニール炉。特徴は、①試作開発用途に最適、②加熱エリア上／下面にIR（赤外）方式のヒータを装備し、最大到達温度1200℃、最高150K/秒の高速昇温が可能、③窒素パージ方式による冷却方式を採用し、最大190K/分の降温も実現、など。