卓上サイズながら、最大到達温度1000℃（オプション装備時は、1200℃）を実現可能なフロントローディング式高真空対応卓上型高速加熱アニール炉。特徴は、①流量をプログラム制御可能なマスフローコントローラによる、窒素ガスを初めとした各種プロセスガスパージに対応、②高真空対応チャンバ／真空バルブを採用し、ターボ分子ポンプとの組み合わせにより、最大真空到達度10⁻⁴Paを実現、③ワーキングエリアがガスシールドされているため、コンタミを気にするプロセスのほか、腐食性ガス、毒性ガスの流入プロセスにも対応可能、など。