低温短時間焼成（80℃～／3分～）、高反射率～98％のハイパフォーマンスをもつ化合物型銀インク。

特徴は、
①インク表面に直接ミラー面を形成するため、あらゆる基材に対応可能、
②錯体銀をベースにしているため、銀の特性を活かし90％以上の高反射率の銀ミラー面を形成、
③シンプルな設備で、短時間で基材に加飾することが可能、
④低温短時間焼成で銀ミラー表面を析出できるため、耐熱性の弱い素材への鏡面形成が可能、
など。