高温／均熱性を実現した加熱システム。特徴は、①加熱対象物の吸収波長に合わせた色温度を設定できる、②均熱精度は±3％以内（トレイ有）、③スピーディな昇温特性で、室温から800°まで約0.5分、④高温（常用800℃）で使用可能、⑤真空中でも大気中でも使用することが可能、⑥加熱面サイズ：丸型φ200〜φ1000／角型200〜1000mm角、⑦化合物半導体の熱処理、酸化膜／窒化膜生成、各種RTAなどの用途に好適、など。