基板が静止した状態で様々なリフロープロファイルを実現する静止型リフロー装置。特徴は、①開発／試作／評価からセル生産まで対応、②時間とともに各ヒータ／風量を制御し、様々な加熱条件を設定可能、③窒素雰囲気での加熱／冷却が可能、④短時間で装置を立ち上げることができ、待機中の加熱が必要ないため、無駄な消費電力を削減できる、⑤PCを内蔵しタッチパネルで簡単に操作でき、6chの温度測定機能でプロファイルの解析が簡単に行える、⑥独自の上面ヒータマトリックス制御で、高い精度の温度分布（Δt）を実現、など。