オスミウム金属を非結晶でコーティングする導電被膜形成装置。特徴は、①1nm〜の極薄膜でもチャージなく、電子線ダメージを防止、②極薄膜から厚膜まで再現性高く成膜、③各種元素分析、局所方位解析、SEMなどの試料表面観察に力を発揮、など。