多元系酸化物半導体用成膜に最適なヒータユニット。特徴は、①ヒータ面温度max900℃（使用条件による）、②優れた均熱性（800℃±10℃）、③昇温特性（100℃/10分）、④ダストフリー、出ガスが限りなく少ないため、真空にて使用可能、⑤Cl系、F系を除く、ほとんどのガス雰囲気に対応、⑥製作可能標準サイズはφ4〜12インチで、そのほか四角形／長方形などにも対応、⑦真空チャンバ／排気系／ガス導入系も併せて製作可能、など。