ALD成膜装置
8インチ用

8inch(オプションで6inchも可能)基板を対象としたプラズマアシスト機能を搭載する製品。特徴は、①ロードロック機構を搭載し、プロセスチャンバは常にクリーン、かつ高真空環境を維持し、プロセスの高再現性、膜質の高品質化を実現可能、②プラズマアシストによるプロセス温度の低温化、膜密度の向上が期待でき、プラズマを援用しない通常のサーマルプロセスも実施可能、など。主な仕様は、成膜種:酸化膜(仕様変更により窒化膜にも対応可能)、基板温度:最高500℃、成膜圧力:1Pa以上、到達圧力:8×10−2pa、プラズマ出力:最大1kW、プラズマガス種:Ar O2 03、プリカーサ:3種類搭載可能、など。
- 会社名
- ワッティー(株)
- 所在地
- 東京都品川区西五反田7-18-2
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