ギ酸リフロー装置
卓上型

急速昇温200℃/分、急速冷却100℃/分を実現したギ酸リフロー装置。特徴は、①最高温度450℃(650℃まで対応可能)、②加熱板面積:230×217mm、③ギ酸により酸化皮膜を還元、④Windowsによる平易なプログラム作成および運転、⑤1つのレシピで100ステップまで設定可能、⑥検視窓付きでプロセスの監視が可能、⑦プロセスガス:2ライン、⑧フラックスレス、鉛フリーはんだ、⑨ウエハバンプリフロー/フリップチップ、など。
- 会社名
- (株)ケー・ブラッシュ商会
- 所在地
- 東京都中央区月島1-2-13

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